主要技術指標 處理氣量：（1-3000）Nm3/h 壓力：≤0.8Mpa 氫氣純度：≥99.9995% 露點：≤-60oC 純氫含氧量：≤5ppm ● 氫氣純化裝置工作原理 本產品以水電解氫、瓶氫、變壓吸附制氫為原料氣，經催化除氧，吸附干燥和過濾除塵而獲得高純氫氣，是一種催化型氫氣裝置，本裝置采用特制催化劑，具有較高的活性，能使氫中雜質氧降 到5ppm以下，并可長期使用，無須再生處理。因此，本裝置可廣泛用于電子、半導體、冶金、石油、化工及玻璃等需要高純氫氣的有關科研和生產部門。